研究人員發(fā)現(xiàn)了大規(guī)模生產(chǎn)紫外全息圖的最佳條件

研究人員深入研究了用于紫外超表面制造的納米復(fù)合材料的成分，并確定了制造它們的理想印刷材料。他們的研究結(jié)果發(fā)表在 4 月 22 日的《微系統(tǒng)與納米工程》雜志上。

超表面(超薄光學(xué)器件)具有將光控制到納米厚度的卓越能力。超表面作為推動下一代顯示、成像和生物傳感的關(guān)鍵技術(shù)一直是研究的主題。它們的影響范圍超出了可見光，深入到紅外線和紫外線領(lǐng)域。

納米壓印光刻是一種超表面生產(chǎn)技術(shù)，類似于從單個模具生成大量復(fù)制品的印章。這種創(chuàng)新技術(shù)有望以經(jīng)濟實惠的方式大規(guī)模制造超表面，為其商業(yè)可行性鋪平道路。然而，用作印刷材料的樹脂有一個缺點——折射率低，阻礙了有效的光操縱。

為了應(yīng)對這一挑戰(zhàn)，研究人員正在積極探索納米復(fù)合材料，將納米顆粒整合到樹脂中以提高其折射率。然而，這種方法的功效取決于多種因素，例如納米顆粒類型和溶劑選擇，因此需要系統(tǒng)分析以獲得最佳超表面性能。

在他們的研究中，該團隊精心設(shè)計了實驗來評估納米顆粒濃度和溶劑選擇對圖案轉(zhuǎn)移和紫外元全息圖的影響。

具體來說，他們控制了二氧化鋯 (ZrO 2)的濃度，二氧化鋯 (ZrO 2 ) 是一種納米復(fù)合材料，以其在 UV 超全息圖生產(chǎn)中的有效性而聞名，范圍從 20% 到 90%。結(jié)果表明，在 80% 的濃度水平下獲得了最高的圖案轉(zhuǎn)移效率。

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