日本研究人員一直在努力保持納米設(shè)備涼爽，或者至少防止其過(guò)熱。通過(guò)在微型硅結(jié)構(gòu)中添加微小的二氧化硅涂層，他們能夠顯著提高散熱率。這項(xiàng)工作可能會(huì)帶來(lái)更小、更便宜、可以封裝更多微電路的電子設(shè)備。
隨著消費(fèi)電子產(chǎn)品變得越來(lái)越緊湊，同時(shí)仍然擁有更高的處理能力，管理微電路廢熱的需求已成為一個(gè)主要問(wèn)題。
一些科學(xué)儀器和納米級(jí)機(jī)器需要仔細(xì)考慮如何將局部熱量從設(shè)備中分流出去，以防止損壞。
當(dāng)熱量以電磁波的形式輻射出去時(shí)，就會(huì)發(fā)生一定程度的冷卻——類(lèi)似于太陽(yáng)光通過(guò)太空真空到達(dá)地球的方式。然而，能量傳輸速率可能太慢，無(wú)法保護(hù)敏感且密集的集成電子電路的性能。
對(duì)于要開(kāi)發(fā)的下一代設(shè)備，可能需要建立新的方法來(lái)解決這個(gè)熱傳遞問(wèn)題。
在最近發(fā)表在《物理評(píng)論快報(bào)》雜志上的一項(xiàng)研究中，東京大學(xué)工業(yè)科學(xué)研究所的研究人員展示了如何在由微小間隙隔開(kāi)的兩塊??微型硅板之間使輻射傳熱率加倍。
關(guān)鍵是使用二氧化硅涂層，在表面板的熱振動(dòng)(稱為聲子)和光子(構(gòu)成輻射)之間建立耦合。
該研究的主要作者立川紗子 (Saeko Tachikawa) 表示：“我們能夠從理論上和實(shí)驗(yàn)上證明電磁波如何在氧化層界面處被激發(fā)，從而提高傳熱速率。”
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